Студенческий сайт КФУ - ex ТНУ » Учебный раздел » Учебные файлы »Коммуникации и связь

Радиоволновые, радиационные методы контроля РЭСИ. Методы электронной микроскопии

Тип: реферат
Категория: Коммуникации и связь
Скачать
Купить
Необходимое условие применения СВЧ-методов. Варианты схем расположения антенн преобразователя по отношению к объекту контроля. Три группы методов радиоволновой дефектоскопии: на прохождение, отражение и на рассеяние. Аппаратура радиоволнового метода.
Краткое сожержание материала:

Министерство образования Республики Беларусь

Белорусский государственный университет информатики и

радиоэлектроники

кафедра РЭС

РЕФЕРАТ

на тему:

«Радиоволновые, радиационные методы контроля РЭСИ. Методы электронной микроскопии»

МИНСК, 2008

Радиоволновый метод

Радиоволновые методы основаны на взаимодействии электромагнитного поля в диапазоне длин волн от 1 до 100 мм с объектом контроля, преобразовании параметров поля в параметры электрического сигнала и передаче на регистри-рующий прибор или средства обработки информации.

По первичному информативному параметру различают следующие СВЧ-методы: амплитудный, фазовый, амплитудно-фазовый, геометрический, времен-ной, спектральный, поляризационный, голографический. Область применения СВЧ-методов радиоволнового вида неразрушающего контроля приведен в таблице 1 и в ГОСТ 23480-79.

Табл. 1 -

Радиоволновые методы неразрушающего контроля

Название метода

Область применения

Факторы, огра-ничивающие область приме-нения

Контролируе-мые параметры

Чувствитель-ность

По-греш-ность

Ампли- тудный

Толщинометрия полуфабрикатов, изделий из радиопрозрачных материалов

Сложная кон-фигурация. Из-менение зазора

между антеной преобразователя и поверхностью конт-роля.

Толщина до 100 мм

1 - 3 мм

5%

Дефектоскопия полуфабрикатов, изделий и конст-рукций из ди-электрика

Дефекты: тре-щины, рас-слоения, недопрес-совки

Трещины бо-лее 0,1 - 1 мм

Фазовый

Толщинометрия листовых мате-риалов и полу-фабрикатов, слоистых изделий и конструкций из диэлектрика.

Волнистость профиля или поверхности объекта контро-ля при шаге менее 10L. От-стройка от влияния ампли-туды сигнала

Толщина до 0,5 мм

5 - 3 мм

1%

Контроль «элек-трической» (фа-зовой) толщины

Толщина до 0,5 мм

0,1 мм

Ампли-тудно -фазовый

Толщинометрия материалов, по-луфабрикатов, изделий и конст-рукций из ди-электриков, кон-троль изменения толщины.

Неоднознач-ность отсчета при изменении толщины более 0,5А,Е Измене-ние диэлектри-ческих свойств материала объек-тов контроля величиной бо-лее 2%. Толщи-на более 50 мм.

Толщина 0 -

50 мм

0,05 мм

±0,1 мм

Ампли-тудно -фазовый

Дефектоскопия слоистых мате-риалов и изделий из диэлектрика и полупроводника толщиной до 50 мм

Изменение за-зора между ан-тенной преобра-зователя и по-верхностью объ-екта контроля.

Расслоения, включения, трещины, из-менения плот-ности, нерав-номер-ное рас-пре-деление составных компонентов

Включения порядка 0,05А,Е. Трещины с раскрывом порядка 0,05 мм.Разноплот-ность порядка 0,05 г/см3

Геомет-рический

Толщинометря изделий и конст-рукций из ди-электриков: кон-троль абсолют-ных значений толщины, оста-точной толщины

Сложная кон-фигурация объ-ектов контроля; непараллель-ность поверхно-стей. Толщина более 500 мм

Толщина 0 -500 мм

1,0 мм

3-5

%

Дефектоскопия полуфабрикатов и изделий: контроль раковин, расслоений, инородных включений в изделиях из диэлектриче-ских материалов

Сложная кон-фигурация объ-ектов контроля

Определение глубины зале-гания дефек-тов в пределах до 500 мм

1,0 мм

1 -3%

Времен-

Толщинометрия конструкций и сред, являющих-ся диэлектрика-ми

Наличие «мерт-вой» зоны. На-носекундная техника. При-

Толщина более 500 мм

5--10 мм

5%

ной

Дефектоскопия сред из диэлек-триков

менение генера-торов мощно-стью более 100 мВт

Определение глубины зале-гания дефек-тов в пределах до 500 мм

5 -- 10 мм

5%

Спек-тральный

Дефектоскопия полуфабрикатов и изделий из ра-диопрозрачных материалов

Стабильность частоты генера-тора более 10-6 . Наличие источ-ника магнитно-го поля. Слож-ность создания чувствительного тракта в диапа-зоне перестрой-ки частоты бо-лее 10%

Изменения в структуре и физико-химических свойствах ма-териалов объ-ектов контро-ля, включения

Микродефек-ты и микронеоднород-ности значительно меньшие рабо-чей длины волны.

-

1

2

3

4

5

6

Поляри-зацион-ный

Дефектоскопия полуфабрикатов, изделий и конст-рукций из ди-электрических материалов.

Сложная кон-фигурация. Толщина более 100 мм.

Дефекты структуры и технологии, вызывающие анизотропию свойств мате-риалов (анизо-тропия, меха-нические и термические напряжения, технологиче-ские наруше-ния упорядо-ченности структуры)

Дефекты пло-щадью более 0,5 - 1,0 см2.

-

Гологра-фичес-кий

Дефектоскопия полуфабрикатов, изделий и конст-рукций из ди-электрических и полупроводнико-вых материалов с созданием ви-димого (объемно-го) изображения

Стабильность частоты генера-тора более 10-6. Сложность соз-дания опорного пучка или поля с равномерны-ми амплитудно -фазовыми ха-рактеристика-ми. Сложность и высокая стоимость ап-паратуры.

Включения, расслоения, разнотолщин-ность. Изме-нения формы объектов.

Трещины с раскрывом 0,05 мм

-

Примечание: ? - длина волны в контролируемом объект; L - размер раскрыва ан-тенны в направлении волнистости.

Необходимым условием применения СВЧ-методов является соблюдение сле-дующих требований:

- отношение наименьшего размера (кроме толщины) контролируемого объекта к наибольшему размеру раскрыва антенны преобразователя должно быть не ме-нее единицы;

- наименьший размер минимально выявляемых дефектов должен не менее чем в три раза превышать величину шероховатости поверхности контролируе-мых объектов;

- резонансные частоты спектра отраженного (рассеянного) излучения или напряженности магнитных полей материалов объекта и дефекта должны иметь различие, определяемое выбором конкретных типов регистрирующих устройств.

Варианты схем расположения антенн преобразователя по отношению к объек-ту контроля приведены в таблице 1.

Методы этого вида контроля позволяют определять толщину и обнару-жить внутренние и поверхностные дефекты в изделиях преимущественно из неметаллических материалов. Радиоволновая дефектоскопия дает возмож-ность с высокой точностью и производительностью измерять толщину диэ-лектрических покрытий на металлической подложке. В этом случае ампли-туда зондирующего сигнала представляет собой основной информационный параметр. Амплитуда проходящего через материал излучения уменьшается из-за многих причин, в том числе из-за наличия дефектов. Кроме этого, изменяются длина волны и ее фаза.

Существуют три группы методов радиоволновой дефектоскопии: на прохож-дение, отражение и на рассеяние.

Аппар...

Другие файлы:

Радиоволновые радиационные методы контроля РЭСИ Методы электронной микроскопии

Радиоволновые, радиационные методы контроля РЭСИ. Методы электронной микроскопии
Радиоволновые методы основаны на взаимодействии электромагнитного поля в диапазоне длин волн от 1 до 100 мм с объектом контроля, преобразовании параме...

Методы световой и электронной микроскопии
Изучение строения и принципов работы светового и электронного микроскопов. Рассмотрение методов темного и светлого поля, фазово-контрастной микроскопи...

Классификация методов контроля качества РЭСИ. Методы неразрушающего контроля РЭСИ
Определения в области испытаний и контроля качества продукции, понятие и контроль. Проверка показателей качества технических устройств. Цель техническ...

Электромагнитные и тепловые методы контроля РЭСИ
Электромагнитные методы неразрушающего контроля. Особенности вихретокового метода неразрушающего контроля. Основные методы возбуждения вихревых токов...